Nanotest Hungary Kft.

  • Increase font size
  • Default font size
  • Decrease font size
Címlap Fókuszban Nanotechnológia

Nanotechnológia

Spanning a wide range of research fields, such as biology, chemistry, physics, and engineering, nanotechnology is uniquely interdisciplinary in character. The common factor in nanotechnology is the lateral dimension of the structures studied. Defined as materials being in, or having components in, the one billionth (10-9) of a meter range, nanotechnology research and development relies on accurate measurement of atomic and molecular distances within structures ranging from semiconductor devices to nano-powders. Since the dimensions of X-ray wavelengths are of the same magnitude as the size of nanostructures, X-ray diffraction (XRD) and associated techniques are primary tools for the nanotechnology researcher. X-ray reflectometry (XRR) determines layer thickness, roughness, and density. High-resolution X-ray diffraction can measure layer thickness, roughness, chemical composition, lattice spacing, relaxation and more. X-ray diffuse scattering is used to determine lateral and transversal correlations, distortions, density, and porosity. In-plane gracing incidence diffraction is employed to study lateral correlations of thinnest organic and inorganic layers as well as depth profiling. Finally, small angle X-ray scattering (SAXS) can determine the size, shape, distribution, orientation, and correlation of nano-particles present in solids or solutions. Rigaku technology and expertise are combined to provide a number of X-ray diffraction products for nanotechnology applications.




Measurement of the in-plane reciprocal lattice map of ultra-thin films of ZnO, MgO and sapphire

Even when a film thickness is extremely thin, the crystallographic orientation relationship with the substrate can be easily analyzed using Rigaku's SmartLab multipurpose diffractometer equipped with an in-plane attachment by performing the in-plane reciprocal lattice map measurement method.

Bővebben...
 

Grazing-incidence small angle X-ray scattering (GISAXS) analysis of pore size distributions in nano-porous silica films

Nano-porous silica films have potential applications in diverse areas, including biomedical science and nanoelectronics. Evidence has indicated that the pore size and pore size distribution have paramount effects on the properties and/or functionality of the films. Correct and fast evaluation of the average pore size and the pore size distribution is thus an important step in the course of research and development of the nano-porous silica thin film materials. 

Bővebben...
 

Related systems:

Nanotechnológia alkalmazásokhoz a RIGAKU számos dedikált berendezést fejlesztett ki:

  • SMARTLAB - Ultra nagyfelbontású diffraktométer
    - CBO: nagyfelbontású párhuzamos nyaláb geometria
    - 9 kW-os forgóanódos röntgencső
    - Dedikált In-Plane geometria ultra vékonyrétegek (akár 1-2 molekula réteg) mérése
    - SAXS - nanorészeckék szemcseméret eloszlás vizsgálata 
  • Nanohunter - TXRF spektrométer
    - Felületi szennyeződés mélységprofil
    - PPB szintű detektálás
    - Folyadék, vékonyréteg elemanalitika
  • S-Max3000 - Nagyfelbontású SAXS
    - Szemcseméret eloszlás vizsgálat az 1-120 nm tartományban
    - Opcionális WAXS geometria
    - Folyamatos áramlású cella kolloid vizsgálathoz

 

 

 


Miniflex II asztali
pordiffraktométer


Röntgen diffrakció minden eddiginél egyszerűbben és olcsóbban 

Bővebben...

RIGAKU - Innovatív megoldások a röntgenspektrometriában: A Total Reflexiós Röntgenspektrometria újszerű alkalmazásai

A RIGAKU Corporation röntgenspektrometria területén megjelent új fejlesztései közül ezúttal a Total Reflexiós Röntgenspektrometria (TXRF) néhány újszerű alkalmazását szeretnénk bemutatni a RIGAKU új fejlesztésű, asztali TXRF készülékén, a NANOHUNTER készüléken keresztül. A szabadalmaztatott váltható gerjesztő forrásnak és a röntgennyaláb beesési szögének automatizált változtatásával a készülék nem csak az Al - U elemtartomány ppb szintű mérését teszi lehetővé, hanem vékonyrétegek esetén a felületi elemösszetétel, illetve szennyezések mélység szerinti profilja is roncsolás mentesen meghatározható. Ezáltal felületi folyamatok, diffúzió, szegregáció, felületi homogenitás stb. tanulmányozható.           Bővebben...